大功率极紫外光源解决高端光刻机技术“卡脖子”难题，现寻求融资
在全球半导体产业竞争日益激烈的背景下，极紫外光刻机已成为芯片制造迈向先进制程的核心装备，而其核心部件——极紫外光源，长期是我国半导体产业链中亟待突破的“卡脖子”环节。面对西方国家的销售禁令，实现极紫外光源的自主可控刻不容缓。在此背景下，苏州极紫外半导体有限公司自2022年7月成立以来，致力于极紫外大功率光刻光源的研发，目前其原型机已研制成功，光源功率指标达到预期目标，标志着国产极紫外光刻技术迈出了关键一步。
产业需求和国家战略需要
公司旨在为国产极紫外光刻机提供高性能、低成本的核心光源解决方案，彻底解决国内相关厂商“买不到”的困境。项目由公司总经理首席科学家兼总经理张兴强教授主导技术研发，执行董事赵军滨负责所有部件的采购、整合、安装、测试。张兴强教授在等离子体光源领域拥有深厚积累，发表了多篇相关重要学术论文并拥有多项发明专利，为项目的技术攻关奠定了坚实基础。
项目的发展过程并非一帆风顺，从2022年公司成立，搭建试验装置，到最终完成原型机研制，团队坦言在此过程中遇到了大量技术难题。然而，凭借核心团队的执着与专业能力，目前大部分难题已得到解决。关键的里程碑包括试验样机成功搭建，以及工程样机放电测试成功，证明其技术路径的可行性。在知识产权方面，公司已申请了“毛细管放电等离子体耦合发光结构”和“极紫外光刻双真空光源设计”等多个核心技术发明专利，构建了自身的技术壁垒。
创新和差异化竞争优势
其“极紫外光刻双真空光源设计”能有效排除光源杂质对输出的影响，从而提高输出功率，并以较低的放电重复频率即可满足光刻生产要求。另一项“毛细管放电等离子体耦合发光结构”技术，使三束等离子体经过耦合形成锥形发光结构，从而显著提高了单次发光功率。目前公司原型机功率可达120W，能够满足极紫外光刻的基本要求。
市场前景极为广阔，随着国内芯片制造企业向更先进工艺迈进，对极紫外光刻机的需求将持续增长。苏州极紫外半导体公司将市场定位聚焦于以上海微电子、中芯国际等为首的半导体代工龙头企业，并计划与华为等国内龙头厂商进行深度合作。在定价策略上，公司计划以比市场领先者荷兰阿斯麦低约30%、比日本尼康低约15%的价格切入市场，同时保持有竞争力的毛利率，展现出显著的成本优势。
对于未来，公司已制定了清晰的发展规划。短期目标是于2026年完成工程样机产品化，并实现首台销售。长期展望则是在2030年左右实现极紫外光源的批量出货，并筹备登陆科创板。目前，公司正在积极寻求融资，以用于进一步完善原型机性能，为后续的工程化与产业化做准备。
该项目的战略价值和已取得的技术进展，使其在资本市场上备受期待。该极紫外光源的突破，不仅是一家创业公司的技术胜利，更是中国半导体产业链自主化进程中的一个重要信号。
