05月
13
消息称三星电子3nm、2nm良率分别超60%、40%，正与外部客户展开性能评估
据外媒报道，三星电子基于GAA晶体管结构的3nm和2nm节点良率分别超过了60%和40%，在工艺良率有起色的背景下三星正努力争夺先进制程订单。三星晶圆代工预计将很快进入英伟达GPU和高通移动端AP项目对2nm工艺性能评估的最后阶段。（财联社）原文链接
据外媒报道，三星电子基于GAA晶体管结构的3nm和2nm节点良率分别超过了60%和40%，在工艺良率有起色的背景下三星正努力争夺先进制程订单。三星晶圆代工预计将很快进入英伟达GPU和高通移动端AP项目对2nm工艺性能评估的最后阶段。（财联社）原文链接
