彻底绕过光刻机！85后科学家研究成果可能价值千亿

前几天我看到了青橙奖的获奖名单，其中包括来自湖南大学的刘渊教授，因为我本人的研究方向是半导体微纳加工，刘渊教授的获奖技术成果是垂直晶体管，这自然就引起了我的注意。今年4月份，《自然·电子学》杂志已经刊登了他最新的研究成果，1nm以下沟道长度的垂直晶体管构筑，用这种方式几乎可以完全绕过高精度光刻机。这项技术虽然还没有投入应用，但已经被认为是摩尔定律的下一个拯救者了。本期戴老师就和大家聊聊垂直晶体管。