国产半导体制造成本压力大？「住晶新材料」开辟光刻胶产业链国产化之路

根据中国半导体协会公布的数据，2018年中国集成电路行业销售额为6532亿元，同比增长20.7%。得益于近年来中国集成电路产业快速发展，集成电路用电子化学品需求市场也快速增长。

2014-2018年，中国集成电路用电子化学品市场规模稳定增长，2018年，集成电路用电子化学品市场规模为628亿元，同比增长19.5%。

 中国集成电路用电子化学品市场规模不断增长的同时，生产成本压力大、材料过度依赖进口等问题也日益凸显。目前国内显示器胶全面依赖进口，其中，液晶面板光刻胶中国用量最大，达到每年2万吨以上，国外进口占比达85%以上。

由专家康文兵博士牵头创立的住晶新材料（烟台）有限公司，主要从事研发光刻胶，其产品成分由光敏剂和树脂、添加剂、溶剂构成。其中，光敏剂是利用植物五倍子加工而成，具有资源唯一性。

「住晶新材料」已开发的成熟产品有g-线, h-线, i-线（436nm, 405nm, 365nm) 材料，在液晶、OLED、印刷等领域获得大量应用，且产品耐热性有较高提升。其客户包括兆驰股份，聚飞股份，天通股份等国内LED及半导体芯片制造企业Top 10。

目前全球主要光刻胶厂主要集中在日本、美国和韩国，国内同类厂商主要有光刻胶厂苏州瑞红、北京科华（中低端光刻胶为主）。与国内竞品相比，住晶新材料的核心竞争力主要体现在原材料不依赖国外进口。同时，团队拥有芯片制造材料相关的中国专利26篇，英文专利25篇。

「住晶新材料」研发总监于深为南开大学博士，曾于2013-2019年就职万华化学，任高级研发经理。主要研究领域为电子材料基础及应用研究（OLED，半导体及显示器制造用光刻胶，周边材料，涂膜型绝缘材料，纳米级光刻胶表面处理材料）。在国际权威期刊发表文章6篇，申请发明专利5项。

据团队透露，住晶新材料已于2019年8月建立研发实验室，建立光刻胶及材料研发、调配、检测与分析实验条件，可调配小样品供客户测试。项目预计2019年12月投产365纳米光刻胶产品应用于LED、激光、二极管行业。2020-2022年升级产品248nm和193nm等中高端光刻胶，主要面向半导体加工行业。

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